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提升PVDF介電性能:片狀氧化鎂基填料的創(chuàng)新應用

作者:小編 瀏覽人數(shù):  次更新時間:2024-09-20

提升PVDF介電性能:片狀氧化鎂基填料的創(chuàng)新應用

 

 

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在現(xiàn)代科技的快速發(fā)展中,對材料性能的要求越來越高。特別是在電子、電氣和能源存儲領域,高介電常數(shù)的材料對于提高設備性能至關重要。PVDF作為一種高性能工程塑料,因其優(yōu)異的綜合性能而被廣泛使用。然而,純PVDF的介電常數(shù)相對較低,這限制了它在高介電應用中的使用。為了克服這一挑戰(zhàn),研究人員探索了通過添加片狀氧化鎂基填料來提高PVDF的介電性能。

 

片狀氧化鎂基填料的特點

 

片狀氧化鎂基填料因其高比表面積、高介電常數(shù)和良好的化學穩(wěn)定性而成為提升PVDF介電性能的理想選擇。此外,氧化鎂的環(huán)境友好性使其成為綠色材料應用的首選。

 

復合材料的制備方法

 

制備高性能的PVDF/MgO復合材料需要精確控制原料的混合和成型過程。通過高速攪拌機或雙螺桿擠出機混合PVDF樹脂和片狀氧化鎂填料,確保填料在樹脂基體中均勻分散。隨后,通過熱壓成型或注塑成型技術將混合物制成標準試樣,并進行適當?shù)暮筇幚恚缤嘶?,以消除內應力?/span>

 

介電性能測試

 

介電性能的評估包括介電常數(shù)、損耗因子和擊穿強度的測試。這些測試在不同的頻率和溫度條件下進行,以全面了解復合材料的介電特性和溫度穩(wěn)定性。

 

實驗結果與討論

 

實驗結果表明,添加片狀氧化鎂基填料可以顯著提高PVDF復合材料的介電常數(shù)。當片狀氧化鎂基填料的質量分數(shù)為10%時,復合材料的介電常數(shù)從純PVDF8.5提高到15.0。此外,復合材料的損耗因子保持在較低水平,表明其在高頻應用中的潛力。

 

影響因素

 

填料含量、形態(tài)、分散性和界面相互作用是影響PVDF/MgO復合材料介電性能的關鍵因素。優(yōu)化這些參數(shù)可以進一步提升復合材料的性能,滿足特定應用的需求。


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